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[00339862]一种光学微腔结构、制造方法及测量方法

交易价格: 面议

所属行业: 光学仪器

类型: 非专利

技术成熟度: 通过小试

交易方式: 其他

联系人:曹老师

所在地:广东深圳市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  本发明公开了一种用于测量光学薄膜厚度的光学微腔结构、制造方法及测量方法,其中一种光学微腔结构,包括全反射层,所述全反射层承载于一衬底之上;待测薄膜层,设置于所述反射层表面;半反射膜层,设置于所述待测薄膜层表面。本申请中,通过半反射层与待测薄膜层的接触表面形成第一介质分界面,待测薄膜层与全发射膜层的接触表面形成第二介质分界面。入射光在第一介质分界面与第二介质分界面之间来回反复反射,一束光线通过第一介质分界面、第二介质分界面形成多束用以产生干涉效应的光线,使得反射谱上呈现出较明显的尖锐干涉峰,有利于在后续测量过程中,能够较准确地实现光谱拟合,提高待测薄膜厚度测量准确度。

  本发明公开了一种用于测量光学薄膜厚度的光学微腔结构、制造方法及测量方法,其中一种光学微腔结构,包括全反射层,所述全反射层承载于一衬底之上;待测薄膜层,设置于所述反射层表面;半反射膜层,设置于所述待测薄膜层表面。本申请中,通过半反射层与待测薄膜层的接触表面形成第一介质分界面,待测薄膜层与全发射膜层的接触表面形成第二介质分界面。入射光在第一介质分界面与第二介质分界面之间来回反复反射,一束光线通过第一介质分界面、第二介质分界面形成多束用以产生干涉效应的光线,使得反射谱上呈现出较明显的尖锐干涉峰,有利于在后续测量过程中,能够较准确地实现光谱拟合,提高待测薄膜厚度测量准确度。

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