[00315237]一种可调焦均匀辐照光学系统
交易价格：
面议
所属行业：
光学仪器
类型：
实用新型专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201420438475.4
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
厦门立德软件公司
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技术详细介绍
本实用新型涉及一种可调焦均匀辐照光学系统，特别是一种基于简单透镜列阵的可调焦均匀辐照光学系统。包括平-凸面型透镜列阵（1）、凸-平面型聚焦透镜（2），平-凸面型透镜列阵（1）将激光束分割成大量子光束，凸-平面型聚焦透镜（2）使经平-凸面型透镜列阵（1）分割的激光束在目标靶面形成光斑，通过调整平-凸面型透镜列阵（1）与凸-平面型聚焦透镜（2）之间的距离，能使目标光斑的尺寸发生线性改变。本实用新型可在目标靶面获得均匀的光斑强度分布，并且可灵活地改变目标光斑的大小。本实用新型在用于惯性约束聚变及高能密度物理实验研究的大型高功率激光驱动装置、用于激光加工的高功率激光器以及光刻等领域有重要的应用价值。
本实用新型涉及一种可调焦均匀辐照光学系统，特别是一种基于简单透镜列阵的可调焦均匀辐照光学系统。包括平-凸面型透镜列阵（1）、凸-平面型聚焦透镜（2），平-凸面型透镜列阵（1）将激光束分割成大量子光束，凸-平面型聚焦透镜（2）使经平-凸面型透镜列阵（1）分割的激光束在目标靶面形成光斑，通过调整平-凸面型透镜列阵（1）与凸-平面型聚焦透镜（2）之间的距离，能使目标光斑的尺寸发生线性改变。本实用新型可在目标靶面获得均匀的光斑强度分布，并且可灵活地改变目标光斑的大小。本实用新型在用于惯性约束聚变及高能密度物理实验研究的大型高功率激光驱动装置、用于激光加工的高功率激光器以及光刻等领域有重要的应用价值。
