[00286782]一种阶段降流制备镁合金微弧氧化陶瓷层的方法
交易价格：
面议
所属行业：
专用化学
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201510796840.8
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
江苏科技大学
进入空间
所在地：江苏镇江市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种阶段降流制备镁合金微弧氧化陶瓷层的方法，其步骤是：将打磨清洗吹干的镁合金试样放入硅酸钠-磷酸钠复合电解液中，以镁合金试样为阳极，不锈钢槽为阴极，进行阶段电流处理：阶段1的电解液温度为35-40℃，电流为1.2-1.8A、工作频率为500-600Hz、占空比为20-40％；阶段2的电流为0.6-1.0A；所得具有高耐蚀性的镁合金微弧氧化陶瓷层试样。得到的微弧氧化陶瓷层表面致密光滑，有光泽，手感细腻，具有较高的耐蚀性能，膜层腐蚀速率小于0.2795g/m2h，膜层硬度475HV以上，膜层粗糙度小于4.46μm，明显有别于单一电流模式的微弧氧化陶瓷层。
本发明公开了一种阶段降流制备镁合金微弧氧化陶瓷层的方法，其步骤是：将打磨清洗吹干的镁合金试样放入硅酸钠-磷酸钠复合电解液中，以镁合金试样为阳极，不锈钢槽为阴极，进行阶段电流处理：阶段1的电解液温度为35-40℃，电流为1.2-1.8A、工作频率为500-600Hz、占空比为20-40％；阶段2的电流为0.6-1.0A；所得具有高耐蚀性的镁合金微弧氧化陶瓷层试样。得到的微弧氧化陶瓷层表面致密光滑，有光泽，手感细腻，具有较高的耐蚀性能，膜层腐蚀速率小于0.2795g/m2h，膜层硬度475HV以上，膜层粗糙度小于4.46μm，明显有别于单一电流模式的微弧氧化陶瓷层。
