[00277853]一种以透明陶瓷为基底材料制作二元光学元件的方法
交易价格：
面议
所属行业：
其他仪器仪表
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201510011115.5
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
南昌航空大学
进入空间
所在地：江西南昌市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种以透明陶瓷为基底材料制作二元光学元件的方法，采用未掺杂的钇铝石榴石透明陶瓷用作二元光学元件的基底材料，通过磁控溅射系统装置在透明陶瓷表面溅射一层致密抗氧化金属膜，借助接触式光刻系统将掩模板中的光栅等二元光学元件微结构转印至透明陶瓷的金属膜中，使其保留在透明陶瓷上。该基底材料具有耐高温、耐高压、耐腐蚀，硬度高，且在红外波段具有良好的透过率等优点，适合于制作透射式和反射式二元光学元件，能够克服传统的不透明硅系列基材不能制作透射式二元光学元件、无法应用于特殊环境的不足。
摘要：本发明公开了一种以透明陶瓷为基底材料制作二元光学元件的方法，采用未掺杂的钇铝石榴石透明陶瓷用作二元光学元件的基底材料，通过磁控溅射系统装置在透明陶瓷表面溅射一层致密抗氧化金属膜，借助接触式光刻系统将掩模板中的光栅等二元光学元件微结构转印至透明陶瓷的金属膜中，使其保留在透明陶瓷上。该基底材料具有耐高温、耐高压、耐腐蚀，硬度高，且在红外波段具有良好的透过率等优点，适合于制作透射式和反射式二元光学元件，能够克服传统的不透明硅系列基材不能制作透射式二元光学元件、无法应用于特殊环境的不足。
