[00275638]微纳结构D形光纤及制备方法与应用
交易价格：
面议
所属行业：
光学仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201210231125.6
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
南京大学
进入空间
所在地：江苏南京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
微纳结构D形光纤，所述D形光纤为一种横截面形状为字母D型，即光纤一侧为圆形面，光纤另一侧为平面或接近平面，纤芯到光纤圆形面一侧的距离（半径r）为50~200微米，平面到纤芯的距离d为5~15微米；D平面上设有凹凸图案结构，凹凸图案结构是周期0.2~15um、线宽100~1000nm、深度100~400nm的一维阵列或二维网格阵列；该光纤平面一侧有强的消逝场，易受到表面结构特征和材料性质的调控。在D形光纤表面制备微纳结构的工艺，具体为利用纳米压印技术将模板结构转移到D形光纤的平面上，通过被转移的微纳结构与D型光纤平面消逝场相互作用，使光纤内部传输的光受到调制，进而实现光传感、光调致等功能。
微纳结构D形光纤，所述D形光纤为一种横截面形状为字母D型，即光纤一侧为圆形面，光纤另一侧为平面或接近平面，纤芯到光纤圆形面一侧的距离（半径r）为50~200微米，平面到纤芯的距离d为5~15微米；D平面上设有凹凸图案结构，凹凸图案结构是周期0.2~15um、线宽100~1000nm、深度100~400nm的一维阵列或二维网格阵列；该光纤平面一侧有强的消逝场，易受到表面结构特征和材料性质的调控。在D形光纤表面制备微纳结构的工艺，具体为利用纳米压印技术将模板结构转移到D形光纤的平面上，通过被转移的微纳结构与D型光纤平面消逝场相互作用，使光纤内部传输的光受到调制，进而实现光传感、光调致等功能。
