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[00272201]一种自组装的天然纳米柱薄膜的形成方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201710166293.4

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 南京邮电大学

进入空间

所在地:江苏南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明公开了一种自组装的天然纳米柱薄膜的形成方法,将位阻胺材料和宽带隙半导体材料分别溶于低沸点溶剂,共混后旋涂在基片上并退火制备天然纳米柱薄膜;本申请可广泛应用于各类聚合物、可溶小分子驻极体型的纳米柱薄膜的产生,本申请通过采用纳米柱薄膜为电荷存储层,与有机活性层接触面积大大提高,使得存储容量以及电荷稳定性得到很大的提升,在有机场效应晶体管存储器中有着巨大的潜在应用前景,并且降低了器件制备成本,便于推广、应用。
本发明公开了一种自组装的天然纳米柱薄膜的形成方法,将位阻胺材料和宽带隙半导体材料分别溶于低沸点溶剂,共混后旋涂在基片上并退火制备天然纳米柱薄膜;本申请可广泛应用于各类聚合物、可溶小分子驻极体型的纳米柱薄膜的产生,本申请通过采用纳米柱薄膜为电荷存储层,与有机活性层接触面积大大提高,使得存储容量以及电荷稳定性得到很大的提升,在有机场效应晶体管存储器中有着巨大的潜在应用前景,并且降低了器件制备成本,便于推广、应用。

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