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[00268695]浸渍提拉法和双离子束溅射法联合制备金属薄膜复合电极的方法

交易价格: 面议

所属行业: 专用化学

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201510264772.0

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 上海大学

进入空间

所在地:上海上海市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种浸渍提拉法和双离子束溅射法联合制备金属薄膜复合电极的方法,应用于电极材料制作领域。本发明采用浸渍提拉法制备中间层,鼓风干燥后500‑600℃煅烧1‑3h。再将其放入双离子束溅射仪中,溅射生长Cu纳米薄膜,快速退火后即可。此制备方法工艺简单,所需试剂量较少,活性层为纳米级Cu薄膜,性能稳定,电容量大,可以快速有效降解印染废水。
摘要:本发明公开了一种浸渍提拉法和双离子束溅射法联合制备金属薄膜复合电极的方法,应用于电极材料制作领域。本发明采用浸渍提拉法制备中间层,鼓风干燥后500‑600℃煅烧1‑3h。再将其放入双离子束溅射仪中,溅射生长Cu纳米薄膜,快速退火后即可。此制备方法工艺简单,所需试剂量较少,活性层为纳米级Cu薄膜,性能稳定,电容量大,可以快速有效降解印染废水。

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