[00263407]248纳米波段的零级抑制相位掩模
交易价格：
面议
所属行业：
光学仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN200810023116.1
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
苏州大学
进入空间
所在地：江苏苏州市
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- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种248纳米波段的零级抑制相位掩模，主要由石英基片以及设置在石英基片一侧表面的槽形结构的光栅构成，其特征在于：所述相位掩模的光栅周期为1050nm～1090nm，槽形深度为240～260nm，所述光栅的每一凸起结构的截面形状为上窄下宽的梯形，梯形的顶部占宽比为0.40～0.46，梯形角为5～13度。本发明的相位掩模，实现了透射248纳米波段激光的零级抑制，相位掩模的零级透过率可以被抑制在2％以内；±1级透射衍射效率高于36％，且与入射光的偏振状态无关。
摘要：本发明公开了一种248纳米波段的零级抑制相位掩模，主要由石英基片以及设置在石英基片一侧表面的槽形结构的光栅构成，其特征在于：所述相位掩模的光栅周期为1050nm～1090nm，槽形深度为240～260nm，所述光栅的每一凸起结构的截面形状为上窄下宽的梯形，梯形的顶部占宽比为0.40～0.46，梯形角为5～13度。本发明的相位掩模，实现了透射248纳米波段激光的零级抑制，相位掩模的零级透过率可以被抑制在2％以内；±1级透射衍射效率高于36％，且与入射光的偏振状态无关。
