[00260463]一种形态可控柔性微纳米柱阵列的制造方法
交易价格：
面议
所属行业：
纳米及超细材料
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201610211929.8
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
西安交通大学
进入空间
所在地：陕西西安市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一种形态可控柔性微纳米柱阵列的制造方法，先在基底表面涂覆水溶胶粘附层，然后在水溶胶粘附层上通过光刻工艺获取微纳米图形化的光刻胶，再在光刻胶表面通过刮涂法得到微纳米颗粒图形化，去除光刻胶，得到微纳米颗粒的图形化模板；将聚合物涂覆在衬底表面，然后对衬底进行预加热；将图形化模板表面的微纳米颗粒接触并嵌入聚合物；再提拉图形化模板，使聚合物被拉伸为微纳米柱阵列，然后对衬底加热使微纳米柱阵列固化；再加热图形化模板，使微纳米颗粒脱离水溶胶粘附层，得到顶端带有微纳米颗粒的微纳米柱阵列；最后将微纳米柱阵列顶端的微纳米颗粒去除，获得聚合物微纳米柱阵列，本发明具有操作简单、成本低、周期短的优点。
一种形态可控柔性微纳米柱阵列的制造方法，先在基底表面涂覆水溶胶粘附层，然后在水溶胶粘附层上通过光刻工艺获取微纳米图形化的光刻胶，再在光刻胶表面通过刮涂法得到微纳米颗粒图形化，去除光刻胶，得到微纳米颗粒的图形化模板；将聚合物涂覆在衬底表面，然后对衬底进行预加热；将图形化模板表面的微纳米颗粒接触并嵌入聚合物；再提拉图形化模板，使聚合物被拉伸为微纳米柱阵列，然后对衬底加热使微纳米柱阵列固化；再加热图形化模板，使微纳米颗粒脱离水溶胶粘附层，得到顶端带有微纳米颗粒的微纳米柱阵列；最后将微纳米柱阵列顶端的微纳米颗粒去除，获得聚合物微纳米柱阵列，本发明具有操作简单、成本低、周期短的优点。
