[00241745]一种气液再分布器及上流式反应器
交易价格：
面议
所属行业：
化工生产
类型：
实用新型专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201720439447.8
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
中国科学院过程工程研究所
进入空间
所在地：北京北京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本实用新型涉及上流式反应器技术领域，公开了一种气液再分布器，包括上下叠置的第一层分布组件和第二层分布组件，所述第一层分布组件和第二层分布组件均包括多条间隔设置的档条，所述第一层分布组件的档条和所述第二层分布组件的档条交错设置形成分布孔。本实用新型还公开了一种上流式反应器，包括上述的气液再分布器。本实用新型提出的气液再分布器，第一层分布组件的档条和第二层分布组件的档条交错设置形成分布孔，气液能够由下而上通过该分布孔，使得气液分布均匀度高，避免壁面效应的发生，传质效率高，同时该结构简单，加工制造便利，成本低。
摘要：本实用新型涉及上流式反应器技术领域，公开了一种气液再分布器，包括上下叠置的第一层分布组件和第二层分布组件，所述第一层分布组件和第二层分布组件均包括多条间隔设置的档条，所述第一层分布组件的档条和所述第二层分布组件的档条交错设置形成分布孔。本实用新型还公开了一种上流式反应器，包括上述的气液再分布器。本实用新型提出的气液再分布器，第一层分布组件的档条和第二层分布组件的档条交错设置形成分布孔，气液能够由下而上通过该分布孔，使得气液分布均匀度高，避免壁面效应的发生，传质效率高，同时该结构简单，加工制造便利，成本低。
