[00223248]一种基于压电基底薄片的微纳米有序通孔阵列金属薄膜传感器的制造方法
交易价格：
面议
所属行业：
自动化元件
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201410082271.6
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
中山大学
进入空间
所在地：广东广州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明涉及一种基于压电基底薄片的微纳米有序通孔阵列金属薄膜传感器，其结构由上到下为微纳米有序通孔阵列金属薄膜、压电基底薄片、环状金属薄膜，所述基底为压电石英晶体或压电陶瓷。再提供一种制备方法，在硅片上光刻加工出微纳米有序阵列图案和环形图案，然后用聚二甲基硅氧烷（PDMS，成分A、B混合）复制出具有硬质PDMS（A:B=1:3）图案层和弹性PDMS（A:B=1:10）衬底层的复合印章；将硫醇“墨水”擦拭在印章表面，然后压印在已镀有金膜的压电基底上，自组装形成硫醇致密单分子层的抗蚀图案；湿法刻蚀制备出多孔金膜和环形金膜。本发明可应用于光学异常透射、石英晶体微天平和电化学三种技术联用传感等领域。本发明制造方法简便、成本低廉、具有可控性及重复性强等优点。
摘要：本发明涉及一种基于压电基底薄片的微纳米有序通孔阵列金属薄膜传感器，其结构由上到下为微纳米有序通孔阵列金属薄膜、压电基底薄片、环状金属薄膜，所述基底为压电石英晶体或压电陶瓷。再提供一种制备方法，在硅片上光刻加工出微纳米有序阵列图案和环形图案，然后用聚二甲基硅氧烷（PDMS，成分A、B混合）复制出具有硬质PDMS（A:B=1:3）图案层和弹性PDMS（A:B=1:10）衬底层的复合印章；将硫醇“墨水”擦拭在印章表面，然后压印在已镀有金膜的压电基底上，自组装形成硫醇致密单分子层的抗蚀图案；湿法刻蚀制备出多孔金膜和环形金膜。本发明可应用于光学异常透射、石英晶体微天平和电化学三种技术联用传感等领域。本发明制造方法简便、成本低廉、具有可控性及重复性强等优点。
