联系人:冯静文
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一、本专利对应产品
本专利描述的是一种用于动态观察镉锌碲(CdZnTe)材料中化学腐蚀坑的装置,该设备为半导体材料的研究、开发和质量控制提供了一个高级的实验平台,适用于半导体工业和材料科学领域。
二、主要技术优势
1.提出了动态化学腐蚀坑观察技术,完成了多液体控制系统设计,实现了实时显微成像技术:该技术允许用户在腐蚀过程中实时观察和记录材料腐蚀坑的形成和发展,这对于理解材料的缺陷和提高制造过程的控制至关重要。
2.提出了自动液体管理技术,解决了腐蚀实验中液体控制不稳定的问题,实现了腐蚀液的动态更新:通过自动进液和排液系统,保证了腐蚀液的新鲜度和浓度的恒定,从而提高了腐蚀实验的可重复性和准确性。
3.以先进的CCD成像系统为载体,通过自动控制和软件管理等,实现了腐蚀过程的高清晰度可视化:整合了高分辨率成像与自动数据收集,为研究人员提供了强大的工具以深入分析材料的微观结构。
三、主要性能指标
观察精度:显微镜放大倍数范围50倍至1000倍。
腐蚀液更新频率:可实现每秒自动更新腐蚀液。
数据采集速率:CCD相机捕获率高达30帧/秒。
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