[01752558]一种具有双高栅的4H-SiC金属半导体场效应晶体管的制备方法
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技术详细介绍
本发明属于场效应晶体管技术领域,特别公开了一种具有双高栅的4H-SiC金属半导体场效应晶体管的制备方法;目的在于提供一种能够提高场效应晶体管的输出电流和击穿电压,改善频率特性的具有双高栅的4H-SiC金属半导体场效应晶体管的制备方法。采用的技术方案为：对4H-SiC半绝缘衬底进行清洗;外延生长SiC层并原位掺杂乙硼烷形成P缓冲层;P缓冲层上外延生长SiC层并原位掺杂形成N型沟道层;N型沟道层外延生长SiC层并原位掺杂形成N+帽层;N+帽层上制作隔离区和有源区;制作源电极和漏电极;对源电极和漏电极之间的N+型帽层和沟道进行光刻、刻蚀,形成的双高栅区域;制作栅电极;制作电极压焊点,完成器件的制作。