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[01668945]平板显示高精细度图案化工艺和装备关键技术开发及应用

交易价格: 面议

所属行业: 广播电视

类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

联系人:

所在地:

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

项目所属技术领域:属于电子信息(新型显示、半导体装备)领域。主要内容及特点:基于薄膜晶体管(TFT)技术的新一代平板显示器制造具有制造面积大、精细度高、器件结构复杂的极端制造典型特征。国内已投入巨资发展平板显示产业,但与庞大产业高速发展极其不对称的是高分辨率平板显示工艺技术相当一段长时间处于引进、消化吸收状况,高端制造装备几乎完全依赖进口。为了实现高分辨平板显示装备的自主创新,自2009年至2014年,由上海大学发起并组织上海大学上海平板显示工程技术研究中心、上海微电子装备有限公司、上海天马微电子有限公司等开展“平板显示高精细度图案化工艺和装备关键技术开发及应用”产学研联合攻关。项目组在高精细度TFT图案化新工艺新结构技术、高精细度平板显示光刻机装备领域获得重大技术突破并实现产业化应用。主要技术创新与进步如下:发明实现了自对准TFT图案化制造新技术项目组发明了一种自对准TFT图案化制造新工艺技术,通过以栅电极为自对准图案,在栅电极方向控制离子注入形成欧姆接触层的技术方案,解决了高精细TFT图案化工艺引起的器件沟道制备难题,实现TFT器件沟道缩小的新技术(比原工艺减小沟道尺寸-25%)。上述具有自主知识产权的关键技术,支撑项目组的高精细平板显示用光刻机的自主研制,并应用于新一代高分辨率的LTPSTFT、柔性显示TFT、触控等新技术开发。攻克大面积高精细曝光若干工艺及装备关键技术,实现高端平板显示光刻机国产化突破在高端平板显示光刻机图案化装备研发过程中,项目组攻克了高精细度光刻机装备和工艺系列关键技术,如超大视场曝光系统、高精度调焦调平系统、精密对准系统等图案化关键技术,成功研发出高精细度平板显示投影扫描光刻机产品及先进工艺。光刻机产品(G4.5代(730mm*920mm)为例)关键指标分辨率、套刻精度分别高达2μm、0.5μm,达到了国际先进水平,实现了高端平板显示用图案化装备国产化突破,打破了受制于人、长期进口的局面。于2014年获得中国科学技术部颁发的“国家重点新产品证书”奖励。突破了高分辨率TFT器件结构设计及工艺,国内率先实现高分辨LTPS TFT量产制造高精细度关键技术项目组发明了一种新型LTPS TFT像素单元内部设置存储电容图案化技术,实现了投影扫描光刻机、自对准TFT图案化的工艺验证,相关验证成果成功应用于天马集团4.5代TFT生产线和LTPS TFT中试线(上海天马微电子有限公司)、国内首条5.5代LTPS生产线(厦门天马微电子有限公司),以及全球首发5.2英寸4K智能手机用显示屏产品。该项目己获授权发明专利28项。发表学术论文15篇。项目整体技术成果国际领先。该项目的研发产生的经济效益计累计新增产值总额超过3.206亿元,累计新增利润7291万元,新增税收3832万元(利税共计1.112亿元),创收外汇817.51万美元。
项目所属技术领域:属于电子信息(新型显示、半导体装备)领域。主要内容及特点:基于薄膜晶体管(TFT)技术的新一代平板显示器制造具有制造面积大、精细度高、器件结构复杂的极端制造典型特征。国内已投入巨资发展平板显示产业,但与庞大产业高速发展极其不对称的是高分辨率平板显示工艺技术相当一段长时间处于引进、消化吸收状况,高端制造装备几乎完全依赖进口。为了实现高分辨平板显示装备的自主创新,自2009年至2014年,由上海大学发起并组织上海大学上海平板显示工程技术研究中心、上海微电子装备有限公司、上海天马微电子有限公司等开展“平板显示高精细度图案化工艺和装备关键技术开发及应用”产学研联合攻关。项目组在高精细度TFT图案化新工艺新结构技术、高精细度平板显示光刻机装备领域获得重大技术突破并实现产业化应用。主要技术创新与进步如下:发明实现了自对准TFT图案化制造新技术项目组发明了一种自对准TFT图案化制造新工艺技术,通过以栅电极为自对准图案,在栅电极方向控制离子注入形成欧姆接触层的技术方案,解决了高精细TFT图案化工艺引起的器件沟道制备难题,实现TFT器件沟道缩小的新技术(比原工艺减小沟道尺寸-25%)。上述具有自主知识产权的关键技术,支撑项目组的高精细平板显示用光刻机的自主研制,并应用于新一代高分辨率的LTPSTFT、柔性显示TFT、触控等新技术开发。攻克大面积高精细曝光若干工艺及装备关键技术,实现高端平板显示光刻机国产化突破在高端平板显示光刻机图案化装备研发过程中,项目组攻克了高精细度光刻机装备和工艺系列关键技术,如超大视场曝光系统、高精度调焦调平系统、精密对准系统等图案化关键技术,成功研发出高精细度平板显示投影扫描光刻机产品及先进工艺。光刻机产品(G4.5代(730mm*920mm)为例)关键指标分辨率、套刻精度分别高达2μm、0.5μm,达到了国际先进水平,实现了高端平板显示用图案化装备国产化突破,打破了受制于人、长期进口的局面。于2014年获得中国科学技术部颁发的“国家重点新产品证书”奖励。突破了高分辨率TFT器件结构设计及工艺,国内率先实现高分辨LTPS TFT量产制造高精细度关键技术项目组发明了一种新型LTPS TFT像素单元内部设置存储电容图案化技术,实现了投影扫描光刻机、自对准TFT图案化的工艺验证,相关验证成果成功应用于天马集团4.5代TFT生产线和LTPS TFT中试线(上海天马微电子有限公司)、国内首条5.5代LTPS生产线(厦门天马微电子有限公司),以及全球首发5.2英寸4K智能手机用显示屏产品。该项目己获授权发明专利28项。发表学术论文15篇。项目整体技术成果国际领先。该项目的研发产生的经济效益计累计新增产值总额超过3.206亿元,累计新增利润7291万元,新增税收3832万元(利税共计1.112亿元),创收外汇817.51万美元。

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