技术详细介绍
1、 该薄膜在制成中利用公司独创的提拉机并采用渐进式镀膜—热处理【逐级升温（1-2℃ /min）】方式。
2、该薄膜以二氧化硅为基料，二氧化硅同传统的高透薄膜基材相比，折射率低至1。46，使其阳光透过率由传统薄膜的89%提高到94%，从而实现太阳能利用的高效化。
3、该薄膜以二氧化钛为基料，该材料具有显著的光催化活性，在阳光作用下能迅速分解玻璃表面附着的油污并形成无害、无污染的产物。
1、 该薄膜在制成中利用公司独创的提拉机并采用渐进式镀膜—热处理【逐级升温（1-2℃ /min）】方式。
2、该薄膜以二氧化硅为基料，二氧化硅同传统的高透薄膜基材相比，折射率低至1。46，使其阳光透过率由传统薄膜的89%提高到94%，从而实现太阳能利用的高效化。
3、该薄膜以二氧化钛为基料，该材料具有显著的光催化活性，在阳光作用下能迅速分解玻璃表面附着的油污并形成无害、无污染的产物。
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