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[00142646]长波长GaNAsBi/GaAs多量子阱激光器及其制备方法

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:201310202050.3

交易方式: 技术转让

联系人: 中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

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所在地:江苏苏州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍

本发明公开了一种长波长GaNAsBi/GaAs多量子阱激光器,包括顺次连接的下限制层、下波导层、有源区、上波导层、电子阻挡层、上限制层、欧姆接触层,其中,所述有源区采用GaNAsBi/GaAs多量子阱结构。本发明可降低激光器阈值电流,提高激光器增益,实现无制冷工作,适合面发射激光器等多类激光器,其生产成本低于InP基激光器,且该多量子阱激光器有源区不含Al,可降低生长工艺的难度,提高激光器的良率和寿命。

本发明公开了一种长波长GaNAsBi/GaAs多量子阱激光器,包括顺次连接的下限制层、下波导层、有源区、上波导层、电子阻挡层、上限制层、欧姆接触层,其中,所述有源区采用GaNAsBi/GaAs多量子阱结构。本发明可降低激光器阈值电流,提高激光器增益,实现无制冷工作,适合面发射激光器等多类激光器,其生产成本低于InP基激光器,且该多量子阱激光器有源区不含Al,可降低生长工艺的难度,提高激光器的良率和寿命。

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