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[00141522]一种脊形圆波导器件的制作方法

交易价格: 面议

所属行业: 光学仪器

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200410061051.1

交易方式: 技术转让

联系人: 华中科技大学

进入空间

所在地:湖北武汉市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  一种脊形圆波导器件的制作方法


  一种脊形圆波导器件的制作方法,属于光通信平面波导器件领域,其目的是实现波导掩埋深度和波导线宽无关、且偏振不敏感的平面光波导制作。本发明步骤为:对制作波导的基底材料整片进行离子交换,然后进行光刻和等离子体刻蚀,使设计的平面波导器件结构复制到基底材料上并形成脊形结构,再进行第二次离子交换,形成掩埋波导,且波导截面呈圆形。本发明不需要薄膜沉积,成本更低,工艺更简单;波导为同质材料,模场呈圆形轴对称结构,光学传输性能表现为偏振不敏感特性,解决了波导掩埋深度随波导线宽的改变而变化的问题,特别适用于制作阵列波导光栅(AWG)型器件,多模干涉(MMI)型器件等波导线宽不规则的器件。


  一种脊形圆波导器件的制作方法


  一种脊形圆波导器件的制作方法,属于光通信平面波导器件领域,其目的是实现波导掩埋深度和波导线宽无关、且偏振不敏感的平面光波导制作。本发明步骤为:对制作波导的基底材料整片进行离子交换,然后进行光刻和等离子体刻蚀,使设计的平面波导器件结构复制到基底材料上并形成脊形结构,再进行第二次离子交换,形成掩埋波导,且波导截面呈圆形。本发明不需要薄膜沉积,成本更低,工艺更简单;波导为同质材料,模场呈圆形轴对称结构,光学传输性能表现为偏振不敏感特性,解决了波导掩埋深度随波导线宽的改变而变化的问题,特别适用于制作阵列波导光栅(AWG)型器件,多模干涉(MMI)型器件等波导线宽不规则的器件。


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