[00137015]提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法及模型
交易价格：
面议
所属行业：
黑色金属开采冶炼
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：ZL200810030072.5
交易方式：
技术转让
联系人：
岭南师范学院
进入空间
所在地：广东湛江市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明涉及一种提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法。新方法的主要特点是用两束正交且相位相差180°线偏振光交替激发开关，加快开关的回复过程，从而实现了加快开关速度和提高了开关的调制深度，同时实现了在低激发功率下提高全光开关速度和调制深度的目的。本发明还提供了一种基于上述新方法的新的全光开关模型，即正交线偏振光激发染料掺杂有机薄膜全光开关模型。本发明具有全光开关响应速度明显加快、弱激发光功率和高速开关频率条件下全光开关的调制深度明显提高、正交线偏振光激发全光开关相对现有的全光开关简化了光路和调整方法的优点。
本发明涉及一种提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法。新方法的主要特点是用两束正交且相位相差180°线偏振光交替激发开关，加快开关的回复过程，从而实现了加快开关速度和提高了开关的调制深度，同时实现了在低激发功率下提高全光开关速度和调制深度的目的。本发明还提供了一种基于上述新方法的新的全光开关模型，即正交线偏振光激发染料掺杂有机薄膜全光开关模型。本发明具有全光开关响应速度明显加快、弱激发光功率和高速开关频率条件下全光开关的调制深度明显提高、正交线偏振光激发全光开关相对现有的全光开关简化了光路和调整方法的优点。
