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[00135402]磁控溅射制备减磨MoS2/C/Ti复合薄膜的方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他化学化工

类型: 发明专利

技术成熟度: 通过中试

专利所属地:中国

专利号:200910195127.2

交易方式: 技术转让

联系人: 汪元元

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所在地:上海上海市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍

发明专利名称: 磁控溅射制备减磨MoS2/C/Ti复合薄膜的方法 发明专利简介: 一种固体润滑技术领域的磁控溅射制备减磨MoS2/C/Ti复合薄膜的方法,包括:第一步、将基片抛光后超声清洗并烘干,装入溅射室内;第二步、在溅射室中进行纯钛溅射和复合层溅射,然后待溅射室自然冷却至室温,制备得到磁控溅射制备减磨复合薄膜。本发明制备工艺简单,沉积过程易于控制,薄膜沉积后无需进行热处理,可直接作为机械零部件表面的减摩防护薄膜使用,制备所得的复合薄膜纳米硬度达到5.9GPa,摩擦系数可达到0.03。
发明专利名称: 磁控溅射制备减磨MoS2/C/Ti复合薄膜的方法 发明专利简介: 一种固体润滑技术领域的磁控溅射制备减磨MoS2/C/Ti复合薄膜的方法,包括:第一步、将基片抛光后超声清洗并烘干,装入溅射室内;第二步、在溅射室中进行纯钛溅射和复合层溅射,然后待溅射室自然冷却至室温,制备得到磁控溅射制备减磨复合薄膜。本发明制备工艺简单,沉积过程易于控制,薄膜沉积后无需进行热处理,可直接作为机械零部件表面的减摩防护薄膜使用,制备所得的复合薄膜纳米硬度达到5.9GPa,摩擦系数可达到0.03。

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