[00134507]一种电子束光刻加工圆形阵列的方法
交易价格：
面议
所属行业：
纳米及超细材料
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：201010227002.6
交易方式：
技术转让
联系人：
中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
进入空间
所在地：江苏苏州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明涉及一种电子束光刻加工圆形规则阵列的方法。旨在减小加工弧形线条时的数据量，从而缩短数据处理的时间。本发明充分利用了高斯型束斑矢量扫描式电子束光刻机的工作模式特点，通过设置特定的扫描步长以及曝光剂量，得到不同直径，不同间距的圆形孔状或者柱状纳米阵列，图形与图形之间最小间隙可小至10nm。本发明可用于不同直径、不同间距的圆形孔状或者柱状纳米阵列的加工，图形与图形之间的最小间隙可至10nm。该工艺方法最大的优势在于，与传统直接加工圆形阵列相比，整个流程中不需要使用圆弧状图形数据，使其在数据处理方面花费的时间会大大缩短。
本发明涉及一种电子束光刻加工圆形规则阵列的方法。旨在减小加工弧形线条时的数据量，从而缩短数据处理的时间。本发明充分利用了高斯型束斑矢量扫描式电子束光刻机的工作模式特点，通过设置特定的扫描步长以及曝光剂量，得到不同直径，不同间距的圆形孔状或者柱状纳米阵列，图形与图形之间最小间隙可小至10nm。本发明可用于不同直径、不同间距的圆形孔状或者柱状纳米阵列的加工，图形与图形之间的最小间隙可至10nm。该工艺方法最大的优势在于，与传统直接加工圆形阵列相比，整个流程中不需要使用圆弧状图形数据，使其在数据处理方面花费的时间会大大缩短。
