X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
关于我们
欢迎来到科易网(仲恺)技术转移协同创新平台,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
成果 专家 院校 需求
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[01102789]核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 专用化学

类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

联系人:

所在地:

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
|
收藏
|

技术详细介绍

该发明涉及一种核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法,属表面抛光加工技术领域。该发明的抛光液,包含研磨剂、氧化剂和水,其特征在于该抛光液组合物中所采用的研磨剂为核/壳型纳米复合粒子研磨剂,即以传统的研磨剂如超细氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈、氧化钛、氧化铁、金刚石、或氮化硅中的任一种为内核,以亲水性高分子链段化合物或含有极性有机官能团化合物为外壳的研磨剂。该发明的抛光液适用于存储器硬盘基片或铝磁盘的化学机械抛光,其优点是可以降低表面的粗糙度(Ra)、波纹度(Wa),并有效减轻抛光加工对硬盘基片表面的机械损伤,从而显著消除划痕、凹坑等表面微观缺陷。发明专利号:ZL200510023377.X。
该发明涉及一种核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法,属表面抛光加工技术领域。该发明的抛光液,包含研磨剂、氧化剂和水,其特征在于该抛光液组合物中所采用的研磨剂为核/壳型纳米复合粒子研磨剂,即以传统的研磨剂如超细氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈、氧化钛、氧化铁、金刚石、或氮化硅中的任一种为内核,以亲水性高分子链段化合物或含有极性有机官能团化合物为外壳的研磨剂。该发明的抛光液适用于存储器硬盘基片或铝磁盘的化学机械抛光,其优点是可以降低表面的粗糙度(Ra)、波纹度(Wa),并有效减轻抛光加工对硬盘基片表面的机械损伤,从而显著消除划痕、凹坑等表面微观缺陷。发明专利号:ZL200510023377.X。

推荐服务:

Copyright © 2015 科易网 版权所有 闽ICP备07063032号-5