[00108012]邻羟基二苯甲酮-稀土配合物及其制备方法和应用
交易价格：
面议
所属行业：
基础化学
类型：
专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：200510036522.8
交易方式：
技术转让
联系人：
厦门立德软件公司
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技术详细介绍
本发明公开一种邻羟基二苯甲酮-稀土配合物及其制备方法和应用，所述邻羟基二苯甲酮-稀土配合物的化学通式为：REL3-r(OH)xmH2O；式中：(1)RE为镨(Pr)、钕(Nd)、钐(Sm)、铕(Eu)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)中的一种或几种的任意比例组合或以上述元素为主的混合稀土；(2)L代表邻羟基二苯甲酮阴离子；(3)x＝0～2，m＝0～3；本发明所述的邻羟基二苯甲酮-稀土配合物作为有机高分子材料光稳定剂应用，具有以下优点：(1)光稳定效能显著高于常用紫外线吸收剂；(2)耐热性明显高于常用紫外线吸收剂和受阻胺光稳定剂，并高于其高分子量品种；(3)发生喷霜现象的倾向极小。
本发明公开一种邻羟基二苯甲酮-稀土配合物及其制备方法和应用，所述邻羟基二苯甲酮-稀土配合物的化学通式为：REL3-r(OH)xmH2O；式中：(1)RE为镨(Pr)、钕(Nd)、钐(Sm)、铕(Eu)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)中的一种或几种的任意比例组合或以上述元素为主的混合稀土；(2)L代表邻羟基二苯甲酮阴离子；(3)x＝0～2，m＝0～3；本发明所述的邻羟基二苯甲酮-稀土配合物作为有机高分子材料光稳定剂应用，具有以下优点：(1)光稳定效能显著高于常用紫外线吸收剂；(2)耐热性明显高于常用紫外线吸收剂和受阻胺光稳定剂，并高于其高分子量品种；(3)发生喷霜现象的倾向极小。
